Cm/C型金剛石對頂砧壓腔
產(chǎn)品介紹：
該種cell被廣泛用于低溫無磁高壓科學(xué)研究，能夠滿足軸向與徑向進光需求，能與低溫裝置配合進行光學(xué)、X-Ray、電學(xué)和同步輻射等相應(yīng)的實驗。
Cm型cell技術(shù)說明：
1、 材質(zhì)為進口高強鈹銅，熱處理后硬度HRC41±1；
2、 采用V350材質(zhì)的該型壓腔型號為C型，可以進行更高強度壓力實驗；
3、加工規(guī)范依據(jù)公制規(guī)格加工，配備進口公制螺絲配件；
4、加工精度要求：平行度優(yōu)于±0.005，未標注公差±0.02，同軸度0.003，垂直度0.002，光潔度---底座面0.4，端面0.8；WC seat，0.005平行度，未標注公差±0.02，硬度HRC90；
5、外觀亞光防銹處理，獨立真空包裝；
6、每套壓機配件：鈹銅級M3*20左右旋加壓螺絲，各2枚；M1.2頂絲基米8枚，鈹銅迷宮碟簧8枚，保護基米1枚，WC墊塊2枚；
7、保修1年。
產(chǎn)品參數(shù)：
壓砧支撐材料：碳化鎢；
加壓機制：螺栓-碟簧加壓
頂部張角：30度；底部張角：34度
DAC高度：29.58mm
DAC外徑：20.32mm
工作距離：<15mm
中心高度：7.62mm；中心孔徑：2.0mm
