VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀
產(chǎn)品簡介：
VTC-600-3HD 三靶磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙 烯薄膜等。VTC-600-3HD 三靶磁控濺射儀配置三個靶槍，一個配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，兩個配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備，特別適用于實(shí)驗(yàn)室研究固態(tài)電解質(zhì)及 OLED 等。
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產(chǎn)品名稱 |
VTC-600-3HD 三靶磁控濺射儀 |
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產(chǎn)品型號 |
VTC-600-3HD |
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安裝條件
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本設(shè)備要求在海拔 1000m 以下， 溫度 25℃±15℃ ，濕度 55%Rh±10%Rh 下使用。 |
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1、水：設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(jī)（加注純凈水或者去離子水） 2、電： AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣（純度 99.99%以上），需自備氬氣氣瓶（自帶 Ø6mm 雙卡套接頭）及減壓閥 4、工作臺： 尺寸 1500mm×600mm×700mm ，承重 200kg 以上 5、通風(fēng)裝置：需要 |
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主要特點(diǎn) |
1 、配置三個靶槍，一個配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，兩個配套直流電源用于導(dǎo) 電性材料的濺射鍍膜（靶槍可以根據(jù)客戶需要任何調(diào)換）。 2、可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛。 3、體積小，操作簡便。 4、整機(jī)模塊化設(shè)計(jì)，真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設(shè)計(jì)，可根據(jù)用戶實(shí)際需要調(diào)整。 5、可根據(jù)用戶實(shí)際需要選擇電源，可以一個電源控制多個靶槍，也可多個電源單一控制靶槍。 |
| 技術(shù)參數(shù) |
1、電源電壓： 220V 50Hz 2、總功率：＜2.5KW 3、極限真空度： < E-6mbar （配合本公司設(shè)備使用可達(dá)到 4、工作溫度： RT-500℃，精度±1℃（可根據(jù)實(shí)際需要提升溫度） 5、靶槍數(shù)量： 3 個 6、靶槍冷卻方式：水冷 7 、靶材尺寸： Ø2″ ，厚度 0.1mm-5mm （因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同） 8、直流濺射功率： 500W （可選） 9、射頻濺射功率： 300W/500W （可選） 10、載樣臺： Ø140mm 11、載樣臺轉(zhuǎn)速： 1rpm-20rpm 內(nèi)可調(diào) 12、保護(hù)氣體： Ar 、N2 等惰性氣體 13、進(jìn)氣氣路： 質(zhì)量流量計(jì)控制 2 路進(jìn)氣， 1 個流量為 100 SCCM ，1 個流量為 200 SCCM |
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產(chǎn)品規(guī)格 |
主機(jī)尺寸： 500mm ×560mm×660mm ，整機(jī)尺寸： 1300mm ×660mm×1200mm； 重量： 160kg |
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標(biāo)準(zhǔn)配件 |
1 |
直流電源控制系統(tǒng) |
2 套 |
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2 |
射頻電源控制系統(tǒng) |
1 套 |
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3 |
膜厚監(jiān)測儀系統(tǒng) |
1 套 |
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4 |
分子泵（德國進(jìn)口） |
1 臺 |
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5 |
冷水機(jī) |
1 臺 |
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6 |
冷卻水管（Ø6mm） |
4 根 |
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可選配件 |
金、銦、銀、鉑等各種靶材 |
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